PENGARUH RAPAT ARUS PULSA TERHADAP KARAKTERISASI MORFOLOGI PERMUKAAN DAN KOMPOSISI LAPISAN KOMPOSIT Ni-AlN/ Si3N4 MENGGUNAKAN ELEKTRODEPOSISI Annisa1,a), Esmar Budi2,b), Teguh Budi Prayitno3,c)
Program Studi Fisika, Fakultas Matematika dan Ilmu Pengetahuan Alam, Universitas Negeri Jakarta, Jl. Rawamangun Muka, Jakarta 13220, Indonesia
Abstract
. Dalam penelitian ini dilakukan pembentukan lapisan komposit Ni-AlN/Si3N4 menggunakan metode elektrodeposisi dengan rapat arus pulsa sebesar 0,35 mA/mm^2 selama 30 menit dengan laju pengadukan 60 rpm pada suhu 40 derajat celcius. Substrat yang akan digunakan dalam pembentukan lapisan komposit Ni-AlN/Si3N4 adalah tungsten karbida (WC). Tungsten karbida yang telah dilapisi kemudian diuji menggunakan Scanning Electron Microscopy-Energy Dispersive Spectroscopy (SEM-EDS) untuk menganalisis morfologi dan komposisinya. Komposisi yang digunakan untuk membentuk lapisan tersebut adalah Ni2Cl2. 6H2O 0,2 gr, Ni2SO4. 6H2O 0,4 gr, AlN 0,03 gr, Si3N4 0,003 gr, SDS 0,003 gr, dan H3BO3 0,15 gr. Hasil karakterisasi morfologi menggunakan Scanning Electron Microscope (SEM) dengan skala perbesaran 2500x menunjukkan bahwa adanya substrat berhasil terlapisi tetapi permukaan lapisan komposit NI-AlN/Si3N4 terlihat kasar. Hasil dari pemindaian Energy Dispersive X-Ray Spectroscopy (EDS) menunjukkan keberhasilan terbentuknya lapisan komposit Ni-AlN/Si3N4 dengan adanya kandungan unsur logam Ni, Al, dan Si.
Keywords: Please Just Try to Lapisan komposit Ni-AlN/Si3N4, Elektrodeposisi, Morfologi, KomposisiSubmit This Sample Abstract
