PEMBENTUKAN MORFOLOGI DAN KOMPOSISI PADA LAPISAN KOMPOSIT NICKEL SILICON NITRIDE ( Ni/Si3N4 ) MENGGUNAKAN METODE ELEKTRODEPOSISI ARUS PULSA
Irsya Luthfiah Ramadhyagita, Esmar Budi, Teguh Budi Prayitno

Universitas Negeri Jakarta

Abstract

Pelapisan logam sering digunakan dalam industri untuk memodifikasi morfologi permukaan tanpa mengubah sifat aslinya. Telah dilakukan pembentukan lapisan komposit Ni/Si3N4 pada Tungsten Karbida (WC) dengan rapat arus sebesar 0,25 mA/mm2untuk menganalisis morfologi permukaan dan komposisi lapisan komposit Ni/Si3N4. Pembentukan ini dilakukan menggunakan metode elektrodeposisi arus pulsa pada suhu 40 dengan laju pengadukan 600 rpm selama 1 jam. Komposisi larutan yang digunakan adalah Ni2SO4. 6H2O 0,38 M, Ni2Cl2. 6H2O 0,17 M, Si3N4 0,6 gr/l, SDS (Sodium Dodecyl Sulfate) 0,6 gr/l, dan H3BO3 0,49 M. Hasil penelitian menunjukkan terdapat kandungan unsur logam Ni dan Si dengan komposisi massa berturut-turut 85.17% dan 0.82%. Pemindaian morfologi menunjukkan permukaan yang halus dengan sedikit aglomerasi pada substrat.

Keywords: Lapisan komposit Ni/Si3N4, elektrodeposisi, rapat arus pulsa, morfologi permukaan, komposisi

Topic: Material Physics