Pengaruh Rapat Arus Pulsa Terhadap Karakterisasi Morfologi Permukaan dan Komposisi Lapisan Komposit Ni-AlN/ Si3N4 Menggunakan Elektrodeposisi
Annisa, Esmar Budi, Teguh Budi Prayitno

Universitas Negeri Jakarta

Abstract

Dalam penelitian ini dilakukan pembentukan lapisan komposit Ni-AlN/Si3N4 menggunakan metode elektrodeposisi dengan rapat arus pulsa sebesar 0,35 mA/mm2selama 30 menit dengan laju pengadukan 60 rpm pada suhu 40 derajat celcius. Substrat yang akan digunakan dalam pembentukan lapisan komposit Ni-AlN/Si3N4 adalah tungsten karbida (WC).
Tungsten karbida yang telah dilapisi kemudian diuji menggunakan Scanning Electron Microscopy-Energy Dispersive Spectroscopy (SEM-EDS) untuk menganalisis morfologi dan komposisinya. Komposisi yang digunakan untuk membentuk lapisan tersebut adalah Ni2Cl2. 6H2O 0,2 gr, Ni2SO4. 6H2O 0,4 gr, AlN 0,03 gr, Si3N4 0,003 gr, SDS 0,003 gr, dan H3BO3 0,15 gr. Hasil karakterisasi morfologi menggunakan Scanning Electron Microscope (SEM) dengan skala perbesaran 1000x menunjukkan bahwa adanya substrat berhasil terlapisi tetapi permukaan lapisan komposit NI-AlN/Si3N4 terlihat kasar. Hasil dari pemindaian Energy Dispersive X-Ray Spectroscopy (EDS) menunjukkan keberhasilan terbentuknya lapisan komposit Ni-AlN/Si3N4 dengan adanya kandungan unsur logam Ni, Al, dan Si.

Keywords: Lapisan komposit Ni-AlN/Si3N4, Elektrodeposisi, Morfologi, Komposisi

Topic: Material Physics